碱性腐蚀 | KOH,TMAH |
酸性腐蚀 | HF,BOE,HCI,HNO3等 |
光刻胶剥离 | Acetone,IPA |
电感耦合等离子刻蚀 | GaN,GaAs,InP |
深硅刻蚀DRIE | 刻蚀均匀性<±5%,选择比>50:1 |
深氧化硅刻蚀 | 石英,玻璃,硅,刻蚀形貌:90°±1° |
离子束刻蚀 | 用于较难刻蚀的金属或其他物质 |
反应离子刻蚀 | Si,SiO₂,SiNx |
灰化 | 光刻胶,聚合物 |
案例展示
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RIE of InP waveguide 7um polyimide | BOSCH工艺 |
Deep Si etch SOI Notch Free |
SOI Notch Free |